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技术需求及信息库

基本信息

  • R--0102 高端半导体光刻胶核心材料——树脂技术研发及合作

  • 其它

  • 芯成果

  • 范老师

  • fanxiaoxiao@nicu.cn

技术简介

  • 需求概况:

         目前,中国多数光刻胶树脂厂商主要生产中低端树脂,高端树脂主要由日本、韩国和美国等外国企业占主导地位。 当下半导体光刻胶树脂的产业化面临诸多难题。光刻胶树脂的合成技术可分为自由基聚合,阴离子聚合和活性自由基聚合等,目前最常用的是自由基聚合,这种技术容易控制树脂的分子量,且容易产业化,但缺点是PDI (分散度)难以控制很小,导致其无法达到一些光刻性能。


    主要技术指标:

        PDI控制在1.1~1.5,单个金杂<10ppb,总金杂<20ppb.



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