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技术需求及信息库

基本信息

  • R-0105集成电路LPCVD工艺用高阻高纯硅材料部件技术研发与应用

  • 其它

  • 芯成果

  • 范老师

  • fanxiaoxiao@nicu.cn

技术简介

  • 需求概况:

    研发一种采用集成电路LPCVD工艺用高阻高纯硅材料部件,另可用各向同性的方式实现有效清洗。


    主要技术指标:

    1、产品使用高电阻、高纯度(纯度7N以上)多晶硅材料加工而成;

    2、通过分析沉积多晶硅与硅本体间的差异性,找出可通过化学处理的方式去除沉积层;

    3、通过引入阻挡层(如氮化硅、氧化硅、碳化硅)的技术方案,实现硅舟本体与沉积多晶硅的阻隔,从而得到化学去除的先前条件。



需求文件

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