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技术需求及信息库

基本信息

  • R-0013集成电路装备用多轴压电纳米位移平台开发

  • 其他

  • 芯成果

  • 范老师

  • fanxiaoxiao@nicu.cn

技术简介

  • 重点描述企业需要解决的问题及主要技术指标、配套条件:

    一、需解决的主要技术问题:

    1、从结构机制中补偿压电电机预载伸缩问题,提升DUV掩模检测成像系统中产率和性能。

    2、建立压电陶瓷堆叠在超精密微动台上的控制算法、非线性补偿优化算法及建模方法,实现亚纳米级定位精度。

    主要技术指标:

    1、提升DUV掩模检测成像系统中产率和性能。

    2、实现亚纳米级定位精度。



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