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研发成果及信息库

基本信息

  • S-0028 用于芯片制造的白光显微干涉仪及系统

  • 芯片设备

  • 芯成果

  • 范老师

  • fanxiaoxiao@nicu.cn

技术简介

  •         1、重点描述该成果可解的问题、先进性及主要技术指标、配套条件;

           白光显微干涉仪及系统,是用于芯片开发的主要检测仪器。广泛应用于集成电路芯片制造及封装工艺,检测光刻投影物镜镜面表面粗糙度、硅片表面粗糙度与集成电路芯片表面微观结构形貌。垂直分辨率达0.06 nm, 技术指标国际领先,仪器成熟度已达7级。可测各类从超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面,从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率。

           主要技术指标、配套条件

      垂直分辨率:0.06nm

           RMS重复性:0.007nm

           光学分辨率:0.49μm

           CCD分辨率:1392×1024

           最大视场:1英寸(可选)

           最小工作距离:15mm(5X物镜)

           反射率:<1%至100%


           2、应用范围及应用案例:

           可测各类从超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物体表面,从纳米到微米级别工件的粗糙度、平整度、微观几何轮廓、曲率。样机在中科院微电子所,中国工程物理研究院核聚变研究中心等军民领域得到了推广应用。


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