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技术需求及信息库

基本信息

  • R-0024 提高镀层与晶片之间的结合力

  • 其他

  • 芯成果

  • 范老师

  • fanxiaoxiao@nicu.cn

技术简介

  • 重点描述企业需要解决的问题及主要技术指标、配套条件:

    一、需解决的主要技术问题:

    提高镀层与晶片之间的结合力。

    主要技术指标:

    结合力≥40N/mm2。

    二、需求应用范围及应用场景:

    配合超微型半导体制冷器件,是一道关键工序。

需求文件

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