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技术需求及信息库

基本信息

  • R-0027 半导体20-14nm先进制程用超纯八甲基环四硅氧烷及其包装容器的开发和产业化

  • 其他

  • 芯成果

  • 范老师

  • fanxiaoxiao@nicu.cn

技术简介

  • 重点描述企业需要解决的问题及主要技术指标、配套条件:

    一、需解决的主要技术问题:

    1. 超纯八甲基环四硅氧烷的纯化技术。公司引进的团队在超纯前驱体纯化领域拥有多年的研发和生产经验,他们有研发量产大于9N的超纯产品,并批量应用终端客户。原料经过吸附预处理,除去一部分杂质,然后进行精馏,精馏系统

    采用全316L不锈钢材质的产线系统,去除轻组分有机杂质,然后接收合格产品。 技术参数: 超纯OMCTS:纯度≥7.5N, Al≤1ppb,钴≤1ppb,铁≤1ppb,锰≤1ppb,镍≤1ppb,锡≤1ppb,银≤1ppb;水<10ppm; 

    2.超纯八甲基环四硅氧烷的分析技术。超纯前驱体的分析不仅需要最高端的分析仪器,洁净的分析环境。还需要建立适用于半导体级产品的分析测试手段,公司将采购最高端的ICP-MS,GC和水分仪等分析仪器,并建立完整的ISO9001品质管控系统来保证产品的质量稳定性。

    3.超纯八甲基环四硅氧烷的超净包装容器的制造技术。技术参数:加仑不锈钢储罐:内壁粗糙度Ra ≤0.1um;氦检漏率(真空法)≤1.0×10-9mbar·l/。氧含量≤0.3ppm;水份含量≤0.2ppm;颗粒度,颗粒≥0.1um,每立方英尺≤1个


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