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技术需求及信息库

基本信息

  • R-0030经济高效的铝离子吸附剂及技术

  • 技术需求

  • 芯成果

  • 范老师

  • fanxiaoxiao@nicu.cn

技术简介

  • 重点描述企业需要解决的问题及主要技术指标、配套条件:

    一、需解决的主要技术问题:

      公司正在发研发生产电子级高纯六氯乙硅烷(HCDS,Si2Cl6),因其原料为多晶硅行业釜残,其中残留有大量的各类金属离子,尤其是铝离子含量高达1-2万ppb,我公司通过精馏等手段,可将成品中的铝离子含量降低到5-50ppb之间,但集成电路行业用电子级HCDS,需要铝含量小于1ppb。现考虑将原料或中间产品进行吸附除铝,需要找到合适的吸附铝离子材料和技术,经济且高效,去除率高。

     二、实现的主要技术目标:

     能将原料中铝离子含量从大于1万ppb吸附降低至50ppb以下, 或将中间产品中氯离子含量降低至5ppb以下,以利于精馏提纯进一步降低铝含量。


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