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技术需求及信息库

基本信息

  • R-0031 集成电路CMP用抛光垫的产业化生产

  • 其他

  • 芯成果

  • 范老师

  • fanxiaoxiao@nicu.cn

技术简介

  • 重点描述企业需要解决的问题及主要技术指标、配套条件:

      一、需解决的主要技术问题:

      目前公司已实现了集成电路CMP用抛光垫的产业化生产,生产出了质量达到客户应用要求的产品。但是在生产的过程中,为了能有效压缩成本、减少浪费,公司需要提高产品生产良率。

     二、实现的主要技术目标:

      解决压缩成本,避免不必要的浪费,将从产品生产工艺优化、仪器设备调制、生产管理制度完善、生产操作人员培训、产品生产环境控制等方面制定实施计划,通过不断的循环优化,将产品良率提升至85%以上。






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