基本信息

• 成果名称：

  S--0041小型化原子层沉积系统

• 成果分类：

  其它

• 信息来源：

  芯成果

• 联系人：

  范老师

• 联系方式：

  fanxiaoxiao@nicu.cn

技术简介

• 成果概况：

  成果概况：

       本成果针对微电子领域，为小型化原子层沉积设备，可用于新材料的研发，也适用于高校的课程使用 。半导体技术快速发展，集成电路中的晶体管数目不断增加，使得沟道长度不断缩小，原子层沉积技术成为制备高介电栅介质层的不二之选，并已成为半导体研发生长中的一个重要技术。

  
  

  主要技术指标、配套条件

     1. 反应腔内径5cm长100cm；

     2. 包含5路前驱体，其中2路为可加热源 ；

     3. 生长温度为室温至500℃ 。

  
  

  应用范围及应用案例

      成果可应用于微电子、光电子、光学、纳米技术、微机械系统、 能源、催化、生物医用、显示器、耐腐蚀及密封涂层等领域。

  
  

• 产权编号：

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• 成熟度：

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• 合作意向：

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需求文件