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技术需求及信息库

基本信息

  • R-0070FO用PI光刻胶

  • 其他

  • 芯成果

  • 范老师

  • fanxiaoxiao@nicu.cn

技术简介

  • 重点描述企业需要解决的问题及主要技术指标、配套条件:

    一、需解决的主要技术问题:

    目前国内无类似替代材料。该材料用作半导体器件的表面保护膜、凸点的钝化层和重新布线的绝缘层。对标的PI胶型号:日本旭化成 BL301。对标日本旭化成 BL301型号:

    1.粘度:40 poise

    2.i-line光下厚度作业范围:4~10um

    3.ghi-line下厚度范围:4~15um

    4. 固化温度:200℃*2小时

    5. 分辨率:8~10um


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